“PlasmaSki”研究项目：携手打造新颖的等离子体工艺

等离子体纳米技术 (Environment Park S.p.A.)
“PlasmaSki”研究项目：携手打造新颖的等离子体工艺

总部位于都灵的意大利经济技术中心 Environment Park 是该国和国际上"绿色环保"技术的咨询和开发中心。我们为致力于技术创新和秉承可持续发展战略的公司、科研中心、研究院和法人团体提供服务。Environment Park 等离子体纳米技术研究部门与 Plasmatreat 之间富有成果的合作始于 2012 年。仅在两年之内就开发出一种新颖的滑雪板浸渍工艺并且申请了专利：PlasmaSki。

应用

速滑用高性能滑雪板的滑行面现今都是用烧结 UHMWPE（超高分子量聚乙烯）制成。该材料具有微气孔构成的三维蜂窝结构。烧结过程中沉积在这些空腔中的粉尘会堵塞空腔，从而减少蜡的吸收量。创新的常压等离子体工艺的作用就是将微结构中的残留物清除，改善 UHMWPE 表面的性能，使得蜡的吸收量最大化。

我们的创意在于使用 Plasmatreat 的 Openair® 和 PlasmaPlus® 技术改善物理化学特性和滑雪板表面的性能。项目目标是：

提高滑雪板滑行面的蜡吸附量
强化聚乙烯表面，延缓摩擦发热引起的微结构损毁。

开发和试验始于2013年9月。数月之后，于2014年5月为这种新方法申请了专利。

Plasmatreat 技术的多功能性是我们的项目得以成功的一大因素。该公司在使用喷枪系统的等离子体活化和镀膜沉积工艺方面拥有雄厚的知识，而且 PlasmaPlus® 技术非常灵活，使得我们能在很短的时间内确定、优化各种工艺参数。这项工艺革新的成果非常出色。实际上已经凭借该工艺成功改善了滑雪板表面的吸附性能，在使用相同滑雪板准备措施的情况下能够将蜡吸附量提高四至六倍。该工艺包括两个步骤：

表面净化和活化
等离子体沉积纳米保护层

用光学显微镜分析 UHMWRE 表面的最终结构可以看出空腔扩大并且更清洁。除此之外，沉积在表面上的薄膜还能均匀附着在聚乙烯结构上。打蜡之后的滑动试验表明，显著改善了滑动性能、摩擦阻力更低、并且明显提高了蜡在滑雪板滑动面上的附着时间。

随后在真实条件下进行的雪地试验甚至超过了实验值，证明了使用 Openair® 等离子体和 PlasmaPlus® 技术并且结合运用正确的滑雪板准备措施就能提高性能。2015年3月授予了 PlasmaSki 方法的专利。

合作

等离子体纳米技术部门与 Plasmatreat 的合作基于相互信任。我们共同的任务在于研发能满足意大利企业的工艺和产品创新要求并且有助于开拓新市场的解决方案。由于先期合作获得了极好的结果，我们正将双方的关系发展成为紧密的伙伴关系，旨在为我们共同的客户开发量身定制的工艺。

我们能够集中各自的专业优势，将新型等离子体工艺整合到现有的生产流程之中。对等离子体所含活性粒子及其反应动力学的准确认识以及 Plasmatreat 丰富的科学和生产技术经验使得等离子体纳米技术专家们甚至能够在极短的时间内从工艺开发阶段成功进入工业试验阶段。除此之外，还能凭借 Plasmatreat 长年积累的丰富经验精确调整 Openair® 和 PlasmaPlus® 技术，使其适应于不同的要求和应用。