AS400配备了X-Y-Z运动系统,用于实现可自由配置的处理参数,比如处理密度、最大轨迹宽度等,并精确设定喷嘴到基材表面的距离。处理速度可从1米/分钟到最大100米/分钟之间无级设定,轨迹宽度可以每次1毫米的增量调整。从喷嘴到基材表面的距离可以连续地手动调节,最大距离不超过40毫米。

Plasmatreater AS400实验室系统的X-Y-Z运动系统

可编程X-Y-Z运动系统包括在AS400实验室系统之中。
可选组件:

Z轴自动调整

带真空板的托板

托板的台阶式附件,用于实现不同的处理间隔

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