Plasmatreater AS400实验室系统的X-Y-Z运动系统

AS400配备了X-Y-Z运动系统,用于实现可自由配置的处理参数,比如处理密度、最大轨迹宽度等,并精确设定喷嘴到基材表面的距离。处理速度可从1米/分钟到最大100米/分钟之间无级设定,轨迹宽度可以每次1毫米的增量调整。从喷嘴到基材表面的距离可以连续地手动调节,最大距离不超过40毫米。

Plasmatreater AS400实验室系统的X-Y-Z运动系统

可编程X-Y-Z运动系统包括在AS400实验室系统之中。
可选组件:

Z轴自动调整

带真空板的托板

托板的台阶式附件,用于实现不同的处理间隔

/Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen, /Laboranlagen, /Tags/ProdukteSysteme, /Tags/ProdukteSysteme/Laboranlagen

相关文献

无铬的防腐保护 –
应用于铝加工行业的Plasmatreat 等离子技术

ALUMINIUM-PRAXIS (6/2018)
打开文档

结构粘接:等离子体替代溶剂和打磨工艺

WERKSTOFFE in der Fertigung (Nr. 5/2017)
打开文档

等离子体技术取代溶剂

JOT (3/2014)
打开文档

联系

我们期待您的垂询

我们非常高兴能够回答您的问题或倾听您的建议。 我们期待能有机会为您提供任何您所需的帮助。在这里您可以找到您的专属技术销售人员,或者填写递交联络问询单,我们将和您联络。